革新的な製造技術を活用した、高性能な薄膜トランジスタ

日本放送協会

この技術でできること

真空成膜法を必要とせず、塗布型酸化物半導体をチャネルに利用することで製造が容易な薄膜トランジスタの製造方法

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、製造が容易で、高精度のディスプレイデバイス向けに適した薄膜トランジスタの製造方法を提供します。具体的には、塗布型酸化物半導体をチャネルに利用することで、真空を必要とせず大気圧下での製造が可能となります。さらに、スズおよびガリウムから選択される2種類以上の金属成分を含む半導体前駆体溶液を塗布し、その後フッ化水素酸を含む溶液を塗布して酸化することで薄膜を形成します。この方法により、生産効率の低下、製造コストの上昇、環境負荷の増大といった問題を解消しつつ、高性能な薄膜トランジスタを製造することが可能です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業ディスプレイ製造業半導体製造業

高性能ディスプレイの製造

この特許は、高性能なディスプレイデバイスの製造に活用することが可能です。特に、大型ディスプレイの製造においては、従来の真空成膜法による製造では限界があったため、この製造方法を採用することで製造効率と品質を向上させることが期待できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2021-055043
発明の名称: 薄膜トランジスタおよびその製造方法
出願人／権利者: 日本放送協会
公開番号: 特開2021-103791
登録番号: 特許第7149367号

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