ガラス
高能率な合成石英ガラス加工法とその装置
国立大学法人 熊本大学
熊本県熊本市中央区黒髪２－３９－１
この技術でできること
合成石英ガラスを化学機械研磨により、簡易な構成で高能率に加工。オゾンガスと紫外光を組み合わせた研磨スラリーを使用し、短時間で表面粗さを改善し、高品質な加工を実現します。
相談したいこと
技術の特徴
本発明は、合成石英ガラスなどを化学機械研磨によって高能率に加工するための方法および装置に関するものです。この技術は、研磨定盤、研磨スラリー供給部、および試料ホルダーを備え、オゾンガスと紫外光を活用した研磨スラリーを使用することで、表面粗さを短時間で改善します。
主な構成要素と機能
- 研磨定盤（2）：
- 合成石英ガラスを保持する試料ホルダー（4）を備えた研磨装置の一部。
- 研磨スラリー供給部（6）：
- 研磨定盤の上面に研磨スラリーを滴下する部位。
- スラリー供給ボトル（7）：
- 酸化セリウム砥粒（CeO2）を含む研磨スラリーを充填。
- オゾンガス供給部（8）：
- 研磨スラリーにオゾンガスを供給する部位。
- 紫外光照射部（9）：
- 研磨スラリーに紫外光を照射する部位。
動作原理
この研磨装置は、研磨スラリーにオゾンガスを供給し、紫外光を照射することで、研磨効率を向上させます。研磨スラリーは研磨定盤の上面に滴下され、試料ホルダーに保持された合成石英ガラスを研磨します。このプロセスにより、表面粗さが短時間で改善され、高品質な加工が実現します。
利点
- 高能率：短時間で表面粗さを改善し、高能率な加工が可能。
- 高品質：オゾンガスと紫外光の組み合わせにより、高品質な表面仕上げが実現。
- 簡易な構成：特別な装置を必要とせず、簡易な構成で運用可能。
関連キーワード
AIによる特許活用案
半導体製造プロセスの改善
半導体製造において、合成石英ガラスの高品質な表面加工を行い、製品の性能を向上させます。
続きの活用案は会員限定です
無料登録またはログイン後に、公開範囲に応じて確認できます。
参考情報
活用条件
- サブスクリプション・未選択
- 権利譲渡・未選択
- ライセンス契約・未選択
- 商品化・サービス化
- ASK
- 実証実験
- ASK
- サンプル・プロトタイプ
- ASK
掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。
権利概要
- 出願番号
- 特願2021-101332
- 発明の名称
- 加工方法及び加工装置
- 出願人／権利者
- 国立大学法人 熊本大学
- 住所
- 熊本県熊本市中央区黒髪２－３９－１
- 公開番号
- 特開2023-000
- 特許取得国
- JP