革新的なシリコン微粒子製造法

学校法人東京電機大学

この技術でできること

遷移金属イオン含む溶液にシリコン微粒子を浸漬し、シリコン微粒子表面に遷移金属粒子を析出させるシリコン微粒子の製造法

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、表面に微細な孔を有するシリコン微粒子の製造方法を提供します。具体的には、遷移金属イオンを含む溶液にシリコン微粒子を浸漬し、シリコン微粒子の表面に遷移金属粒子を析出させます。その後、フッ化水素酸でエッチングを行い、遷移金属粒子との接触部が酸化されたシリコン微粒子の表面に微細な孔を形成します。この方法は、簡易な操作と安価な材料を用い、コストや手間を削減することが可能です。また、エネルギー関連製品や半導体分野など、幅広い分野での応用が期待されます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業エネルギー業界化学業界

高性能な太陽電池の開発

本特許の技術を用いて、表面に微細な孔を有するシリコン微粒子を製造し、これを太陽電池の発電素子として利用することで、発電効率の向上が期待されます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2018-192870
発明の名称: 表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子
出願人／権利者: 学校法人東京電機大学
公開番号: 特開2020-059632
登録番号: 特許第7224594号

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