高温でも安定した基板加熱装置

東京応化工業株式会社

神奈川県高座郡寒川町田端１５９０

この技術でできること

チャンバ内部への昇華物の付着を抑制し、基板の加熱温度が制限されにくい基板加熱装置と基板処理システム。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、基板の加熱温度を高く設定でき、かつチャンバ内部への昇華物の付着を抑制する基板加熱装置および基板処理システムを提供します。具体的には、加熱処理空間に配置されたガラスを使用することで、基板の塗布面からチャンバの対向面へ向かうヒュームをガラスで遮り、チャンバ内部への昇華物の付着を抑制します。これにより、基板の加熱温度が制限されず、より広範で効率的な加熱処理が可能となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子部品製造業半導体製造業化学工業

高温での基板加熱による効率的な生産

基板の加熱温度が制限されず、より広範で効率的な加熱処理が可能となるため、生産効率の向上が期待できます。また、高温での基板加熱による品質向上や新しい材料の採用など、製品開発の幅を広げることが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2018-153499
発明の名称: 基板加熱装置および基板処理システム
出願人／権利者: 東京応化工業株式会社
住所: 神奈川県高座郡寒川町田端１５９０
公開番号: 特開2020-027919
登録番号: 特許第7178823号

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