ハイパフォーマンスな金属化合物製造装置

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

分子線エピタキシー装置を用いた金属化合物の製造方法

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、分子線エピタキシー装置を用いて金属化合物を製造する方法を提供します。装置は、有機金属供給部から供給された有機金属ガスを基板に供給するガスソースセルを備えています。また、基板とガスソースセルとの間の距離を変化させることが可能で、これにより金属の化合物の成膜を適切に制御します。さらに、基板加熱機構も設けられており、最適な条件下での金属化合物の成膜を実現します。その結果、高品質な金属化合物を効率良く製造することが可能となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業化学工業材料工学

ハイパフォーマンスな半導体製造

この特許を活用することで、半導体製造業が高品質な半導体を効率良く製造することが可能となります。特に、微細な半導体パターニングにおいて、基板上に均一な金属化合物の成膜を行うことが求められています。

続きの活用案は会員限定です

無料登録またはログイン後に、公開範囲に応じて確認できます。

参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号: 特願2018-104963
発明の名称: 有機金属分子線エピタキシー方法及び装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2019-212677
登録番号: 特許第7123348号

登録情報の修正申請