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高精度な微細パターン形成技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

高精度な微細パターン形成技術
掲載画像・国立研究開発法人産業技術総合研究所

この技術でできること

触媒や抵抗体を基板上に精密にパターン形成する革新的技術

技術の特徴

本発明は、基板上に触媒や抵抗体の微細パターンを形成する技術に関するものです。ディスペンサを用いてナノメートルレベルの粒子を精密に塗布し、触媒反応や熱電発電における高効率化を実現します。ガスセンサや発電素子の製造にも応用され、幅広い産業での利用が期待されています。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2005-067297
発明の名称
微細パターン形成方法
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
特開2006-047276
登録番号
特許第4581113号
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