高効率なクラスター膜製造技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
茨城県つくば市梅園１－１－１ つくば中央第１（産総研内）
この技術でできること
クラスター膜を生成するための革新的な製造技術
相談したいこと
技術の特徴
本発明は、パルスレーザーを用いたクラスター膜の製造方法および装置に関するもので、ターゲット材料から生成されたクラスターを基板上に散布し、高品質な膜を効率的に形成する技術です。これにより、様々な産業分野において高性能な薄膜を提供できます。
関連キーワード
AIによる特許活用案
半導体製造への応用
クラスター膜を高精度で形成し、半導体デバイスの製造に応用する技術。
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参考情報
活用条件
- サブスクリプション・未選択
- 権利譲渡・未選択
- ライセンス契約・未選択
- 商品化・サービス化
- ASK
- 実証実験
- ASK
- サンプル・プロトタイプ
- ASK
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権利概要
- 出願番号
- 特願2005-085447
- 発明の名称
- クラスター膜製造方法および製造装置
- 出願人／権利者
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 住所
- 茨城県つくば市梅園１－１－１ つくば中央第１（産総研内）
- 公開番号
- 特開2006-265627
- 登録番号
- 特許第4500941号