高度な真空作成が可能な新型装置

国立研究開発法人情報通信研究機構

東京都小金井市貫井北町４－２－１

この技術でできること

コンパクトでありながら、イオンポンプとゲッターポンプの併用が可能な真空作成装置。

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、超高真空環境の作成維持技術に関するもので、特にデバイス開発やナノサイエンスに関連する。本装置は、円筒状ケーシングの外側に設けられたヒータと多段磁石を備え、これらを用いて真空処理を行う。また、円筒状のケーシングの内壁に接触したゲッターエレメントを活性化することで、高度な真空状態を実現する。従来の真空イオンポンプが重厚長大であるのに対して、本装置はコンパクトでありながら、イオンポンプとゲッターポンプを併用することが可能である。これにより、スペース効率と排気性能の両立を実現している。また、中空円筒内部に機能性ユニットが組み込めるため、装置の構造を柔軟に設計することが可能である。

AIによる特許活用案

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真空環境下での材料分析

本装置を用いて、超高真空環境を作成し、材料の分析を行う。これにより、外部の汚染を避けながら、精密な分析が可能となる。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-218434
発明の名称: 真空作成装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人情報通信研究機構
住所: 東京都小金井市貫井北町４－２－１
公開番号: 特開2019-091576
登録番号: 特許第7008976号

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