革新的な基板加熱装置とポリイミド膜の製造方法

東京応化工業株式会社

神奈川県高座郡寒川町田端１５９０

この技術でできること

赤外線ヒータと精密制御により基板を段階的に加熱し、ポリイミド膜を製造する方法と装置。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、基板を赤外線によって加熱可能な複数の赤外線ヒータを一面に敷き詰めて構成したヒータユニットと、複数の赤外線ヒータを個別に制御可能な制御部、基板及び赤外線ヒータを収容可能なチャンバ、チャンバの内部を減圧可能な減圧部、チャンバの内部に不活性ガスを供給することが可能なガス供給部を含む基板加熱装置の開発に関するものである。また、ポリアミック酸を含む溶液が塗布され、加熱処理される基板の面内における複数地点の温度を検知可能な複数の温度検知部を設けることで、基板の均一な加熱を可能にしています。これにより、基板の一部が過熱または過冷になることを防ぎ、品質の高いポリイミド膜の製造を可能にします。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子デバイス製造業半導体産業精密機器製造業

高品質なフレキシブル基板の製造

フレキシブル性を持つポリイミド膜は電子デバイスの基板として需要が高まっています。本特許の基板加熱装置と製造方法を用いることで、均一に加熱された高品質なポリイミド膜を製造することができ、製品の品質向上に寄与します。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2018-242542
発明の名称: 基板加熱装置及びポリイミド膜の製造方法
出願人／権利者: 東京応化工業株式会社
住所: 神奈川県高座郡寒川町田端１５９０
公開番号: 特開2019-087535
登録番号: 特許第6718950号

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