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高精度インプリント技術で薄膜加工の新時代を切り開く

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

高精度インプリント技術で薄膜加工の新時代を切り開く
掲載画像・国立研究開発法人産業技術総合研究所

この技術でできること

基板の裏面を加圧することで高精度なインプリントを実現

技術の特徴

本発明は、薄い基板を保持し、基板の裏面を加圧してその表面にモールドを押圧するインプリント技術に関するものです。柔軟な加圧用構造体を用いることで、基板表面への精密なインプリントが可能となり、半導体や光学デバイスの製造に適用されます。

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半導体製造への応用

薄い基板に精密なパターンを転写するインプリント技術を半導体製造に応用する技術。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2005-154854
発明の名称
裏面加圧によるインプリント方法及び装置
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
特開2006-332391
登録番号
特許第4595120号
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