高精度な基板加熱が可能な装置とその方法

東京応化工業株式会社

神奈川県高座郡寒川町田端１５９０

この技術でできること

基板の加熱を厳密に制御できる基板加熱装置と、その使用方法

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、基板の加熱を細かく制御するための基板加熱装置とその使用方法に関するものです。装置はホットプレートと赤外線ヒータを含み、これらは加熱範囲を制御することが可能です。さらに、基板との相対位置を調整する位置調整部も含まれています。この装置は、基板の第一面とは反対側の第二面を支持でき、この第二面を法線方向に移動可能な複数のピンを含んでいます。このシステムは、基板の温度を検知し、適切な加熱を行うことで、基板の品質を一定に保つことが可能です。また、装置の使用方法も特許に含まれており、基板を収容する工程、雰囲気を減圧する工程、基板を加熱する工程、圧力を検知する工程、基板加熱部を制御する工程が詳細に説明されています。

AIによる特許活用案

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高品質な半導体製造

基板の一貫した品質を確保するために、この基板加熱装置を半導体製造ラインに導入します。精密な温度と圧力制御により、半導体の品質を一定に保つことができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-167805
発明の名称: 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法
出願人／権利者: 東京応化工業株式会社
住所: 神奈川県高座郡寒川町田端１５９０
公開番号: 特開2019-045061
登録番号: 特許第6554516号

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