高周波対応可能なSi含有Fe基合金粉の製造技術

国立大学法人信州大学

長野県松本市旭３丁目１−１

この技術でできること

低抵抗性と高スイッチング速度を持つSi含有Fe基合金粉の製造方法に特許が取得されています。

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、Si含有Fe基合金粉の製造方法について述べており、特に高周波数領域で低損失な磁性材料の開発が必要とされている現状に対応する技術です。具体的には、SiO含有被膜を備えたSi含有Fe基合金粉をフッ酸処理し、リン酸水溶液や塩酸水溶液に浸漬、乾燥することで、寸法が小さく、表面にSiO含有被膜を備えた基合金粉を得ることができます。また、この製造方法はフッ酸処理、リン酸水溶液への浸漬及び乾燥、塩酸水溶液への浸漬及び乾燥を繰り返すことで、より精度の高い製品を得ることが可能です。この技術は、パワー半導体、特にSiCまたはGaNパワー半導体の製造において有用であり、高周波数領域で低損失な磁性材料の開発に対する一つの解決策となり得ます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業電子部品製造業自動車産業

高周波数対応のパワー半導体製造

この特許技術を利用すれば、高周波数領域で低損失なパワー半導体を製造することが可能となります。特にSiCまたはGaNパワー半導体の製造において、高周波数領域での性能向上を図ることができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-151599
発明の名称: ＳｉＯ２含有被膜を備えたＳｉ含有Ｆｅ基合金粉及びその製造方法
出願人／権利者: 国立大学法人信州大学
住所: 長野県松本市旭３丁目１−１
公開番号: 特開2019-033114
登録番号: 特許第6978040号

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