革新的な保護膜形成装置

芝浦メカトロニクス株式会社

神奈川県横浜市栄区笠間２－５－１

この技術でできること

基板上に保護膜を形成するための新たな装置技術を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、基板上に保護膜を成形するための装置に関するものです。具体的には、成形板と基板とを離隔位置に相対移動させる際に、成形板を離隔位置に弾性支持する弾性部材と、基板の成形板よりはみ出した領域を押さえることを特徴とする保護膜形成装置です。また、内部に減圧可能な真空室が構成され、真空室内に搬送部及び貼合部を備える真空チャンバを有しています。この装置は、基板の表面に、紫外線硬化樹脂等の接着剤からなる保護膜を形成する際に、効率よく高品質な保護膜を形成することが可能です。

AIによる特許活用案

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高品質な保護膜の形成

本装置を用いることで、高品質な保護膜を形成することが可能です。紫外線硬化樹脂等の接着剤からなる保護膜を形成する際に、効率よく高品質な保護膜を形成することが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-133158
発明の名称: 保護膜形成装置
出願人／権利者: 芝浦メカトロニクス株式会社
住所: 神奈川県横浜市栄区笠間２－５－１
公開番号: 特開2019-016518
登録番号: 特許第6959776号

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