革新的な基板加熱装置とその方法

東京応化工業株式会社

神奈川県高座郡寒川町田端１５９０

この技術でできること

基板加熱装置とその加熱方法を提供する特許で、基板の両面を均一に加熱でき、更にチャンバの内部状態を調整可能な装置が特徴。

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、基板加熱装置とその使用方法に関するものです。装置は、基板の一方側に配置されたホットプレートと、基板の他方側に配置され赤外線により加熱可能な赤外線ヒータを含む基板加熱部を特徴としています。さらに、チャンバ加熱部は少なくとも周壁に配置されており、チャンバの内部状態を調整可能なガス供給部も含まれています。これにより、基板の両面を均一に加熱することが可能となります。特に電子デバイスの製造において、基板の加熱が重要な工程であるため、この装置と方法は有用です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業半導体製造業プリント基板製造業

高品質な電子デバイスの製造

この基板加熱装置と方法は電子デバイスの製造において活用可能です。基板の加熱は、電子デバイスの品質に大きく影響を与える重要な工程であり、この装置と方法は基板の両面を均一に加熱することが可能となります。これにより、製造過程における品質の均一性が向上し、製品全体としての品質を高めることができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-064404
発明の名称: 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法
出願人／権利者: 東京応化工業株式会社
住所: 神奈川県高座郡寒川町田端１５９０
公開番号: 特開2018-169050
登録番号: 特許第7018713号

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