高性能を持つ次世代薄膜デバイス

日本放送協会

この技術でできること

酸化物半導体膜と薄膜トランジスタを使用し、高速駆動や大型解像度を実現する薄膜デバイス

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、薄膜デバイスの製造方法に関するもので、特に有機EL素子やLCDを駆動するための薄膜トランジスタを備えた薄膜デバイスの製造に焦点を当てています。酸化物半導体膜中に含まれる金属元素の比率や、ソース/ドレイン電極部の構成など、具体的な製造プロセスとデバイスの構造について詳細に記載されています。また、デバイスの抵抗率や機能も明確に定義されています。この薄膜デバイスは、大型・解像度・高速駆動が要求される次世代ディスプレイや、耐熱性の低い樹脂基板等への適用が可能であり、その高性能と効率性が特徴です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子工学ディスプレイ製造半導体製造

高品質なディスプレイの製造

この薄膜デバイスの製造方法を用いれば、高解像度で高速駆動が可能な大型ディスプレイを製造することが可能です。この技術は、映像技術の進化に伴い、より高品質なディスプレイが求められる現代において、高い価値を持つ可能性があります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-230116
発明の名称: 薄膜デバイス
出願人／権利者: 日本放送協会
公開番号: 特開2018-137422
登録番号: 特許第7060365号

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