スパッタ方法とその装置の新革命：コンビナトリアルスパッタ装置

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

基板に対し高精度の薄膜コーティングを可能にするスパッタ方法とその装置に関する特許です。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、基板に対する薄膜コーティングを高精度に行うためのスパッタ方法とその装置に関するもので、コンビナトリアルスパッタ装置という技術を提案しています。この装置は、複数の基板を装着可能な基板装着部と、スパッタ対象の基板を取り付ける部分、そしてスパッタビームを妥射する複数のスパッタガンとから構成されています。さらに、スパッタガンと基板表面位置との間には、開口を有するスパッタビームマスクが設けられ、スパッタビームを絞って基板表面位置に照射します。これにより、異なるスパッタ対象への照射が継続している間でも、前記位置による照射の均一性を保つことが可能となります。この装置は、複数の基板を同時に装着し、選択した基板に対してスパッタを行うことができるため、大量生産にも適しています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業航空宇宙産業工業製品製造業

高精度薄膜コーティング装置の開発

本特許のスパッタ方法と装置を用いて、様々な産業分野における高精度の薄膜コーティング装置を開発することが可能です。これにより、生産効率と製品の品質を向上させることができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-251841
発明の名称: コンビナトリアルスパッタ方法及び装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2018-104761
登録番号: 特許第6868889号

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