高精度で照射計画を変換する粒子線制御情報生成装置
国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
千葉県千葉市稲毛区穴川4-9-1
この技術でできること
粒子線ビームの進行方向に対するビーム幅が薄い複数のビームを生成し、それに基づく照射計画を変換する装置。
相談したいこと
技術の特徴
この特許は、高精度の粒子線制御情報生成装置に関するもので、ビーム進行方向に対するビーム幅が薄い複数の粒子線ビームを生成し、それに基づく照射計画を変換することができます。特に、ビームのエネルギと他のスライスのビームのエネルギが重なる場合、一つのスライスのビームの照射に変更することが可能です。さらに、装置は照射標的に付与すべき線量を満たすように作成される仮想の粒子線ビームをスライス変調させることができます。これにより、精度の高い照射計画の生成と制御が可能となります。
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参考情報
活用条件
- サブスクリプション・未選択
- 権利譲渡・未選択
- ライセンス契約・未選択
- 商品化・サービス化
- ASK
- 実証実験
- ASK
- サンプル・プロトタイプ
- ASK
掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。
権利概要
- 出願番号
- 特願2016-236200
- 発明の名称
- 粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム
- 出願人/権利者
- 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
- 住所
- 千葉県千葉市稲毛区穴川4-9-1
- 公開番号
- 特開2018-089172
- 登録番号
- 特許第6958887号