均一な量子ドット特性を奏するシリコンナノ粒子の製造方法

学校法人東京電機大学

この技術でできること

本発明は、化学エッチング法によるシリコンナノ粒子の製造方法を改善し、均一な量子ドット特性を持つシリコンナノ粒子を得ることができる。

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、化学エッチング法を用いてシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造する方法に関するものです。従来の製造方法では、ナノ粒子の特性が一様でなく、量子ドットとして均一な特性を備えたシリコンナノ粒子を得るのが困難でした。しかし、本発明の方法では、特定の条件設定により、より均一な量子ドット特性を持つシリコンナノ粒子を得ることが可能となります。これにより、例えば、紫外線照射を行った際に均一な蛍光を発するシリコンナノ粒子を製造することができます。この技術は、触媒分野、コーティング分野、医薬分野など、様々な応用が可能であると考えられます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 化学工業ナノテクノロジー医薬品製造業

均一な量子ドット特性を持つシリコンナノ粒子の製造

本発明の製造方法を利用して、均一な量子ドット特性を持つシリコンナノ粒子を製造します。これにより、特定の光学的特性、電気的特性、磁気的特性、化学的特性を持つシリコンナノ粒子を効率よく大量に製造することが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-174578
発明の名称: シリコンナノ粒子の製造方法
出願人／権利者: 学校法人東京電機大学
公開番号: 特開2018-039695
登録番号: 特許第6906774号

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