高度な制御で最適な基板加熱を実現する装置

東京応化工業株式会社

神奈川県高座郡寒川町田端１５９０

この技術でできること

赤外線反射部を有し、基板の段階的加熱を可能にする基板加熱装置

相談したいこと

技術の特徴

本基板加熱装置は、基板の加熱を最適化するために高度な制御機能を備えています。赤外線反射部を含み、加熱部と赤外線反射部との間に着脱構造が設けられています。この着脱構造は、載置面から突出する突出部と、赤外線反射部に形成される挿込部を含む。この構造により、基板の段階的な加熱が可能となり、加熱による基板の膨張や収縮を許容します。また、基板の搬送部や温度検知部なども設けられ、基板の状態を常に監視しながら最適な状態に保つことができます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造電子部品製造精密機器製造

高精度な半導体製造

半導体製造では基板の加熱状態が製品の品質に大きく影響します。この基板加熱装置を使用することで、基板の加熱状態を最適化し、より精度の高い半導体製造を可能にします。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-167693
発明の名称: 基板加熱装置及び基板加熱方法
出願人／権利者: 東京応化工業株式会社
住所: 神奈川県高座郡寒川町田端１５９０
公開番号: 特開2018-037482
登録番号: 特許第6789040号

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