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多層グラフェンの新たな製法と積層体

国立大学法人 筑波大学

茨城県つくば市春日1-2 高細精医療イノベーション棟1階

この技術でできること

低温で高品質な多層グラフェンを製造し、大量の電気や熱を流すことが可能な製品を提供します。

技術の特徴

本特許は、多層グラフェンの製造方法及びその積層体に関するもので、特に、低温で高品質な多層グラフェンを製造するための新たな方法を提供します。これにより、大量の電気や熱を取り扱い、電極、LSI配線、排熱材等としての利用が可能になります。特に、基板となるガラスやLSIチップ上に形成するため、基板が耐熱可能な低温の温度領域での合成が可能となります。また、本特許による製法では、再現性良く多層グラフェンを得ることができ、多層グラフェンの大規模生産も可能となります。

関連キーワード

多層グラフェン製造方法積層体高品質低温製法

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業自動車産業

高性能電極の製造

高品質な多層グラフェンを用いて、大量の電気を取り扱うことが可能な電極を製造します。これにより、電気伝導性が優れた電極を提供することが可能となります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2016-167043
発明の名称
多層グラフェンの製造方法及び多層グラフェン積層体
出願人/権利者
国立大学法人 筑波大学
住所
茨城県つくば市春日1-2 高細精医療イノベーション棟1階
公開番号
特開2018-035010
登録番号
特許第6723603号
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