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高性能パワーデバイスの新たな可能性、ホウ素ドープダイヤモンド

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

この技術でできること

高濃度ホウ素を含むが低抵抗値を持つ、ホウ素ドープダイヤモンドの製造技術

技術の特徴

本発明は、高濃度のホウ素を含みながらも電気抵抗値が低いホウ素ドープダイヤモンドに関するものです。ダイヤモンドは優れた物性を持つため、パワーデバイス材料としての応用が期待されています。しかし、ダイヤモンドをパワーデバイス材料に応用するためには、ホウ素などの不純物を高濃度でドープし、低抵抗化する必要があります。本発明では、高濃度でホウ素をドープしながらも抵抗値が低いホウ素ドープダイヤモンドを製造する方法を提供しています。これにより、高温や極限環境下でも動作する高性能なパワーデバイスの製造が可能となります。

関連キーワード

ホウ素ドープダイヤモンドパワーデバイス低抵抗化シリコン代替素材ハイテク材料

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高性能パワーデバイスの製造

ダイヤモンドの優れた物性と低抵抗値を活かした高性能なパワーデバイスの製造が可能です。これにより、高温や極限環境下でも動作する堅牢なパワーデバイスを製造できます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2016-141306
発明の名称
ホウ素ドープダイヤモンド
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
特開2018-012612
登録番号
特許第7023477号
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