革新的なモザイク荷電膜の製造法

国立大学法人山口大学

山口県山口市吉田１６７７−１

この技術でできること

イオンビームを用いたモザイク荷電膜の製造方法

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、イオンビームを用いてモザイク荷電膜を製造する新たな方法を提供します。この方法では、高分子膜にエネルギーの高いイオンビームを照射し、その後特定のモノマーをグラフト重合します。これにより、高分子膜を厚さ方向に貫通する除イオン交換領域と陽イオン交換領域を形成し、モザイク荷電層を形成します。また、高分子膜が多孔質支持層上に形成され、モザイク荷電層の膜厚が0.1-80mであることも特徴としています。このモザイク荷電膜は、対象溶液中の低分子量イオンの透過を促進し、イオン輸送を引き起こす機能を有しています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 水処理業界化学業界素材科学業界

水処理施設への応用

本製造法を用いて作られたモザイク荷電膜は、水処理施設での利用が考えられます。特に、塩分を含む水の処理に有効であり、効率的な脱塩処理を実現することが期待されます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-144294
発明の名称: モザイク荷電膜の製造方法及びモザイク荷電膜
出願人／権利者: 国立大学法人山口大学
住所: 山口県山口市吉田１６７７−１
公開番号: 特開2018-012084
登録番号: 特許第6872765号

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