革新的なサンプリングシステムで高解像度サンプリングを実現

国立大学法人東京工業大学

この技術でできること

低侵襲で位置分解能に優れ、サンプルの性質に依存せずに容易にサンプリングを行うことが可能な装置を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、プラズマ照射法とレーザーアブレーション法を併用した新たなサンプリングシステムに関するものです。脱離室に配置された第1のプラズマ源と第1のレーザー光源を用いて、被対象物からサンプルを効率的に採取します。さらに、サンプリングされたサンプルは、分析部で詳細に調べられます。サンプルをイオン化するためのイオン化室も設けられており、第2のプラズマ源と第3のレーザー光源を使用してサンプルのイオン化を行います。このシステムは、被対象物を傷つけることなく、高い精度でサンプリングを行うことが可能で、各種の分析や検査に活用できます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 生物学医療材料科学

高精度な物質分析

各種の物質を高い精度で分析するために、このサンプリングシステムを活用します。被対象物からサンプルを取得し、その性質を詳細に調べることが可能です。これにより、質量分析などの精密な分析が可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号: 特願2016-096092
発明の名称: サンプリング方法およびサンプリングシステム
出願人／権利者: 国立大学法人東京工業大学
住所: 国立大学法人東京工業大学
公開番号: 特開2017-203713
登録番号: 特許第6799311号

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