高いアスペクト比を持つピラーアレー構造体の製造法

東京都公立大学法人

東京都八王子市南大沢１－１

この技術でできること

ピラーアレー構造体の製造におけるアスペクト比問題を解決する新しい製造法

相談したいこと

技術の特徴

本特許では、従来の製造方法で問題となっていたピラーアレー構造体のアスペクト比の問題を解決する製造法が提供されます。この新たな製造法は、高いアスペクト比の金属柱を含むピラーアレー構造体を作製することが可能です。具体的には、アルミニウム基板の表面を陽極酸化させてポーラスアルミナ層を形成し、その表面にレジストパターンを形成。湿式エッチングによりレジストパターンに覆われていない部分のポーラスアルミナ層を選択的に溶解除去し、開口パターンを形成します。その後、開口パターンの底に露出したアルミニウム基板に対して置換メッキを行い、さらに電解メッキを行うことにより、開口パターン内を埋める金属柱を形成します。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子部品製造業エネルギー業半導体製造業

高性能電池の開発

本特許の製造法を用いることで、高いアスペクト比の金属柱を含むピラーアレー構造体を作製できます。これにより、電池の性能を向上させることが可能です。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-134834
発明の名称: ピラーアレー構造体の製造方法
出願人／権利者: 東京都公立大学法人
住所: 東京都八王子市南大沢１－１
公開番号: 特開2017-160528
登録番号: 特許第6727046号

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