新世代ディスプレイの鍵を握る、革新的な塗布型酸化物半導体の製造技術

日本放送協会

この技術でできること

紫外線照射工程を追加した水素導入と酸化の塗布型酸化物半導体の製造方法を特許化。

相談したいこと

技術の特徴

当該特許は、塗布型酸化物半導体の製造方法に関するものであり、酸化物半導体の前駆体溶液をベースとなる層上に塗布した後、酸化物半導体層内に水素を導入する水素導入工程と、水素が導入された酸化物半導体層を酸化する酸化工程を行います。そしてこの水素導入工程と酸化工程の間に、水素が導入された酸化物半導体層に紫外線を照射する紫外線照射工程を行います。この方法により、移動度が大きく製造が容易な塗布型酸化物半導体を製造することができます。特に、有機EL素子やLCDを駆動するために用いられる塗布型酸化物半導体、その塗布型酸化物半導体を備えた薄膜トランジスタ、その薄膜トランジスタを備えた表示装置の製造に有用です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 ディスプレイ製造半導体製造有機EL製造

高効率ディスプレイの製造

当該特許の製造方法を活用することで、移動度が大きく製造が容易な塗布型酸化物半導体を用いた高効率のディスプレイを製造することが可能となります。これにより、ディスプレイ製造の生産効率と品質が向上します。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-025300
発明の名称: 塗布型酸化物半導体、薄膜トランジスタ、表示装置および塗布型酸化物半導体の製造方法
出願人／権利者: 日本放送協会
公開番号: 特開2017-152693
登録番号: 特許第6918511号

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