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革新的な高コントラストX線撮像装置

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現1-2-1

この技術でできること

貴金属でコーティングされた薄膜・多層膜試料の高コントラスト画像を生成

技術の特徴

この特許は、X線ビームが反射するように試料上で調整する傾斜角を持つ面内回転ステージ、前記反射したX線ビームの強度プロファイルを測定するX線検出器、小さな形状の開口部が符号化規則で配置されたアダマールマスク、そして画像再構成演算を行う画像化演算装置を備えたX線撮像装置に関するものです。特に、試料が薄膜・多層膜である場合に、貴金属の臨界角に固定された状態で、X線ビームの全反射現象を利用して高いコントラスト画像を生成します。

関連キーワード

X線撮像アダマールマスク高コントラスト貴金属コーティング全反射

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2017-079620
発明の名称
X線撮像装置及びその使用方法
出願人/権利者
国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所
茨城県つくば市千現1-2-1
公開番号
特開2017-142261
登録番号
特許第6395275号
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