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高感度ガスセンサデバイスの製造方法

富士通株式会社

神奈川県川崎市中原区上小田中4-1-1

この技術でできること

劣化しないCuBr膜を用いたガスセンサデバイスの製造方法

技術の特徴

本特許は、ガスセンサデバイスの製造方法に関するもので、特にCuBr(銅臭化物)膜を使用したガスセンサの感応膜の製造方法を提供します。従来の問題点であるCuBr膜の劣化を防ぐため、第1CuBr膜とそれを覆うCu膜を備える積層膜と、積層膜を介して電気的に接続される2つの電極を備えたガスセンサデバイスの製造を行います。そして、ガスを検知する際に、ガスセンサ用デバイスのCu膜を臭化して第2CuBr膜にし、積層膜を第1CuBr膜と第2CuBr膜とを備える感応膜にして用いられます。この製造方法により、劣化しない高感度のガスセンサデバイスを製造することが可能となります。

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本特許のガスセンサデバイスは、呼気中に含まれる微量のガスを高感度に検知することが可能です。これにより、癌などの疾患特有のマーカーガスを早期に検知することが可能となり、早期診断や治療に繋がります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-099749
発明の名称
ガスセンサ用デバイス、ガスセンサデバイス及びその製造方法、情報処理システム
出願人/権利者
富士通株式会社
住所
神奈川県川崎市中原区上小田中4-1-1
公開番号
特開2016-217756
登録番号
特許第6439577号
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