革新的なキャリアドーピング法を活用した導電体の開発

国立大学法人広島大学

広島県東広島市鏡山１－３－２　本部棟２Ｆ

この技術でできること

クラウンエーテルを用いたキャリアドーピング法と導電体に関する新技術

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、イオン伝導性結晶の構造を維持した状態で、キャリアドープ後の導電体の電気伝導性を向上するキャリアドーピング法と導電体に関するものです。従来の方法では、結晶構造が劇的に変化し、キャリアドープ後の導電体の電気伝導性が十分に向上しないという問題がありました。しかし、この新技術では、リチウムイオンを包接したクラウンエーテルとジチオレート金属錯体とがイオン結合することにより形成されたイオン伝導性結晶を、リチウムイオン以外の酸化還元性を有する金属イオンが溶解した溶液に浸漬させ、リチウムイオンを金属イオンと交換することで、電気伝導性を向上させることが可能となります。

AIによる特許活用案

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高性能導電体の開発

本特許の技術は、有機物伝導体や分子性伝導体の開発に利用できます。特に、電子機器や電力関連製品の性能向上やコスト削減に寄与する可能性があります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2015-095554
発明の名称: キャリアドーピング法および導電体
出願人／権利者: 国立大学法人広島大学
住所: 広島県東広島市鏡山１－３－２　本部棟２Ｆ
公開番号: 特開2016-210726
登録番号: 特許第6469516号

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