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高精細な印刷物を実現するインク膜形成方法

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

この技術でできること

高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを活用した新しいインク膜形成方法

技術の特徴

本特許は、高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを使用した新たなインク膜形成方法に関するものです。ブランケットの表面には、化学的または物理的処理を部分的に施し、高付着性部位と低付着性部位の段差が100nm以下となるように形成されています。このブランケットを使用することで、インク膜は高付着性部位上にのみ転写され、未硬化の表面材料が塗布され、硬化してインク膜を形成します。この方法は、印刷物の高精度化や生産効率の向上に寄与します。

関連キーワード

インク膜ブランケット高付着性部位低付着性部位印刷技術

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高精細な印刷物の製造

本特許の技術は、特に高精細な印刷物の製造において有効です。高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを用いることで、より細かいディテールを持つ印刷物を実現できます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-055140
発明の名称
平刷版を用いたパターン膜形成方法、形成装置
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
特開2016-175192
登録番号
特許第6411254号
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