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新世代の光技術、トポロジカルフォトニック結晶の開発

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現1-2-1

この技術でできること

特殊な材料やプロセスなしで、シリコン等の一般的な材料からトポロジカルフォトニック結晶を作製する技術です。

技術の特徴

本特許では、特殊な材料やプロセスを使用せずに、シリコン等のありふれた材料を使用して作製できるトポロジカルフォトニック結晶の設計に関する技術を提供します。この技術では、平面上に立設された複数の誘電体円柱の周囲が異なる誘電率を有する誘電体で埋められた領域において、誘電体円柱が同じ大きさの正六角形に配置され、その中心は三角格子の格子点に配置されます。この配置により、電磁波のトポロジカルフォトニック状態が実現できます。この技術により、トポロジカルフォトニック結晶の作製が容易になり、さまざまな応用が可能になります。

関連キーワード

フォトニック結晶トポロジカルフォトニック結晶シリコン材料科学応用物理

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業通信技術業界光学産業

量子コンピューティングへの応用

トポロジカルフォトニック結晶は、量子ホール効果等の物理現象を利用し、量子計算の新たな可能性を開くことが期待されています。本技術を用いて作製したトポロジカルフォトニック結晶は、量子コンピューティングの素子として使用することが可能です。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-034902
発明の名称
トポロジカルフォトニック結晶
出願人/権利者
国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所
茨城県つくば市千現1-2-1
公開番号
特開2016-156971
登録番号
特許第6536938号
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