高感度＆高速応答のサーミスタ製造技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜を形成する新しい製造方法

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、耐熱性が低いフレキシブル基材上に、サーミスタ膜を形成する新しい製造方法を提供します。特に、粒径が1μm未満である酸化物ナノ粒子を含有する分散液を基材に塗布し、サーミスタ前駆体膜を形成します。その後、10mJ/cm²以上45mJ/cm²未満のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ前駆体膜に照射します。この方法は、基材にダメージを与えずにサーミスタ膜を形成することが可能であり、製造工程が簡便であるため、生産性の向上が期待されます。また、高感度・高速応答のサーミスタの製造が可能となり、各種デバイスへの組み込みに対応可能です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器センサー技術ナノテクノロジー

高感度センサーの開発

本特許の技術を活用し、高感度・高速応答のサーミスタを用いたセンサーを開発する。これにより、より精度の高い計測が可能となり、各種の産業や研究に貢献できる。

続きの活用案は会員限定です

無料登録またはログイン後に、公開範囲に応じて確認できます。

参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号: 特願2015-003583
発明の名称: サーミスタの製造方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2016-129211
登録番号: 特許第6529023号

登録情報の修正申請