プリンタブルエレクトロニクスの革新：高効率な親水性パターン形成方法

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

本特許は、親水基を有する化合物に特定の基を導入した光架橋剤を用い、親水性部と疎水性部を有するパターンを形成する方法に関する。

相談したいこと

技術の特徴

具体的には、親水基を未端に有する樹状高分子を光架橋剤として使用し、基材の疎水性表面に膜を形成します。その後、8300-400nmの波長の光を所定パターンで照射します。照射後、基材の表面を洗浄することにより、親水性部と疎水性部を有するパターンが形成されます。さらに、該方法で形成された親水性部に導電性膜を形成することが可能です。これにより、電極、配線等の各種の導電性パターン膜を形成できます。本特許はプリンタブルエレクトロニクス技術において、特に電極や配線の形成に好適で、効率的な導電性パターン形成方法として期待されています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業印刷業化学工業

フレキシブル電子デバイスの製造

この技術はフレキシブル基材を用いた電子デバイスの製造に適しています。従来のフォトリソグラフィー法では、基材の歪みに対応するのが難しかったが、本特許の技術ではその問題を克服可能です。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-252280
発明の名称: 光架橋剤による電極印刷用親撥パターン形成方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2016-114716
登録番号: 特許第6544673号

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