革新的なセラミックス膜の形成技術

国立大学法人豊橋技術科学大学

愛知県豊橋市天伯町雲雀ケ丘１－１

この技術でできること

セラミックス膜の形成における新たな方法であるエアロゾルデポジション法を活用した特許技術

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、新たな成膜法として注目を集めているエアロゾルデポジション法（AD法）を用いたセラミックス膜の形成技術に関するものです。セラミックス組成物のマトリックス中に微小固体が均一に分布する構造を特徴とします。さらに、この微小固体は、鍋ドープ酸化インジウムであり、前記微小固体の割合が8体積%以上で、面抵抗率が10^0Q0プcmぞそ以下の導電性を有します。このような特性により、特に噴射によって基板上に堆積させて成膜するために用いられる成膜用原料粉体において、高速で成膜でき、原料の性質が保持され易いという大きな利点があります。また、膜厚3ヵpmにおいて、400nm一800nmの光を7 0%以上透過させ、100nm一2500nmの近赤外領域の光を9 0%以上吸収することも特徴としています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子部品製造業セラミックス業界薄膜技術業界

高品質な電子部品の製造

高品質なセラミックス膜を効率的に形成できる本技術は、電子部品の製造に適しています。膜の品質を向上させながら生産性を維持したい製造業者にとって、価値ある選択肢となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-247475
発明の名称: 成膜用原料粉体およびセラミックス膜
出願人／権利者: 国立大学法人豊橋技術科学大学
住所: 愛知県豊橋市天伯町雲雀ケ丘１－１
公開番号: 特開2016-108618
登録番号: 特許第6411878号

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