革新的な効率を誇る三次元微細構造パターン基板を用いた薄膜太陽電池

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

シリコン系薄膜を用いた薄膜太陽電池の効率向上を実現する基板技術

相談したいこと

技術の特徴

本発明では、薄膜太陽電池用の三次元微細構造パターン基板とその基板を用いた薄膜太陽電池が提供されています。特に、アモルファスシリコン薄膜等のシリコン系薄膜を用いた薄膜太陽電池の効率を向上させるための技術です。基板の表面には電極膜が形成され、その上に薄いアモルファスシリコン太陽電池が形成されます。この基板が持つ三次元微細構造が薄膜太陽電池の性能を飛躍的に向上させます。また、透明基板はガラス、石英、樹脂などから選択でき、表面には透明導電膜が有ります。これらの特性により、従来のテクスチャ基板に比べて格段に高い効率を実現することが可能となっています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 エネルギー産業電子部品製造業建築業

高効率太陽電池の開発

この技術を利用して、効率の良い太陽電池の開発が可能となります。特に、建物の壁面や窓ガラスなどに組み込むことで、太陽光をより効率的に電力に変換できる可能性があります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-235865
発明の名称: 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2016-100444
登録番号: 特許第6415942号

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