革新的な記憶装置、ヒューズ型の不揮発性メモリの製造方法

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

高精細な印刷技術を用いて、不揮発性メモリの製造を可能にする特許です。

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、印刷技術を用いて基板上に高精細に形成できるヒューズ型の不揮発性メモリ及びその製造方法について述べています。従来のメモリは電源供給が必要でしたが、この特許では電源を供給せずとも記憶を保持できる革新的な記憶装置の製造方法を提案しています。特に、フレキシブルな基板上での製造が容易となるため、さまざまな用途での利用が可能となります。また、導電性ポリマーを挟み込み、電圧を印加して水を電気分解し、不可逆的にヒューズ電極間を層間剥離させることで、低電力で動作するマイクロヒューズ型の不揮発性メモリを得ることができます。

AIによる特許活用案

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電子デバイスへの応用

電子デバイスに必要なメモリ部分をこのヒューズ型の不揮発性メモリで製造することで、省電力化と高精細化を実現します。電源供給が不要なことから、ポータブルデバイスやリモート地域での利用に適しています。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-180042
発明の名称: 不揮発性メモリ及びその製造方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2016-054246
登録番号: 特許第6315583号

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