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次世代の微細加工技術、効率的な熱ナノインプリント技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

この技術でできること

モールドパターンの成形不良を解消する効率的な熱ナノインプリント技術

技術の特徴

本特許は、ナノメートルサイズのパターンを大量転写できる熱ナノインプリント技術に関するものです。この技術は、電子デバイス、光学デバイス、バイオチップ等の製作手法に取り入れられています。しかし、従来の方法では、成形材料が不足し、気泡が残存するため成形不良が発生する可能性が高いという問題がありました。本特許では、モールドパターンの成形不良を防止するための独自の手法を提供します。モールドパターンの設計、成形材料の流動性改善、空気から疾縮性ガスへの置換などを組み合わせた方法で成形不良を防止します。これにより製品の品質を向上させ、製造プロセスの効率化を可能にします。

関連キーワード

ナノインプリントマイクロファブリケーション成形技術デバイス製造薄膜技術

AIによる特許活用案

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高性能電子デバイスの製造

本特許の技術を利用することで、電子デバイスの製造過程におけるナノインプリントの成形不良を防止し、より高性能なデバイスを製造することが可能になります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-219201
発明の名称
液浸インプリント方法
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
特開2016-027963
登録番号
特許第5999738号
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