優れたヒドロシラン化合物の製造法

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

イリジウム錯体を用いたヒドロシラン化合物の製造方法として特許化

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、イリジウム錯体を用いてヒドロシラン化合物を製造する技術に関するものです。反応工程は、ジアルキルベンゾイミダゾール-2-イリデン配位子およびホスフィン配位子を有するイリジウム錯体、および塩基の存在下で行われます。特にXは-OSO、CF、-OTL、ヨード基などから選択可能で、R1からR4およびP1からP4にはメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロビル基、nローブチル基、t-プチル基、フェニル基などが選択可能です。この製造法は、水素ガスを水素原子源として触媒的にSi-本結合を形成するヒドロシラン化合物の製造方法に関するもので、高い生産性と安定性を持つため、シリコン樹脂の原料や反応剤などの製造に有用です。

AIによる特許活用案

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高品質シリコン樹脂の製造

本製造法を活用して、ヒドロシラン化合物を製造することで、高品質なシリコン樹脂の原料を確保することが可能です。これにより、シリコン樹脂製品の品質向上とコスト削減を実現できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-143066
発明の名称: ヒドロシラン化合物の製造方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2016-017071
登録番号: 特許第6332682号

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