高性能磁気記録膜の新たな可能性

三菱マテリアル株式会社

東京都千代田区丸の内三丁目２番３号

この技術でできること

本特許は、高比度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法に関するものです。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供します。これは、FePt合金粉、微粉を除去したNiPt合金粉、Pt粉を混合した粉末を真空又は不活性ガスの環境でホットプレスして焼結体を作り出すことにより、焼結体の透過磁束密度を70%以上にすることが可能です。さらに、本特許では、同様の手順でFePt合金粉と、微粉を除去したNiPt合金粉と、Pt粉とアセチレンガスの熱分解により生成されたカーボンブラック粉を混合した粉末を使用した製造法も提案しています。これにより、スパッタリング時の透過磁束密度 (Pass Through Flux: PTF) を向上させ、高比度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜の性能を向上させることができます。

AIによる特許活用案

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高性能ハードディスクの製造

本特許技術を使用することで、透過磁束密度が高い磁気記録膜を形成することが可能となり、これを用いることで高性能なハードディスクの製造が可能になります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-068652
発明の名称: 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法
出願人／権利者: 三菱マテリアル株式会社
住所: 東京都千代田区丸の内三丁目２番３号
公開番号: 特開2015-190018
登録番号: 特許第6213342号

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