細胞工学の新時代を切り開く、革新的な細胞培養基板

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

細胞の接着、増殖、伸展・移動を制御し、安定に細胞排除性を発現する細胞培養基板とその製造方法

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、細胞の接着、増殖、伸展・移動を抑制し、細胞排除性を長期に渡って安定に発現する細胞培養基板、およびその製造方法に関するものです。基板上の平滑な細胞親和領域の周囲に、単一あるいは複数列のV字型構造からなる細胞排除領域を隣接して配置することで、細胞パターニングや細胞を用いた組織形成などの細胞工学的な応用が可能となります。また、この細胞培養基板は、細胞チップ、インプラント材料、あるいは細胞シート培養用基板として利用することが可能です。さらに、この基板の製造方法は、切削、集束イオンビーム、サンドブラスティング、射出成形、コンタクトインプリントリッソングラフィーのいずれかにより細胞排除性構造の溝を加工することを特徴としています。

AIによる特許活用案

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細胞チップの開発

細胞の遺伝子やタンパク質のハイスループット機能解析を行う細胞チップの開発に使用することができます。チップ上に細胞をアレイ状に配列し、医療診断分野などへの応用が可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-056250
発明の名称: 細胞排除性を発現する溝構造
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2015-177755
登録番号: 特許第6472601号

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