エネルギーの未来、水素生成装置への次世代革新

富士通株式会社

神奈川県川崎市中原区上小田中４－１－１

この技術でできること

この特許は、チタンイオンを含むアパタイトを活用した新型水素生成装置およびその生成方法について述べています。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、イオン結合性導電体により形成された触媒下地層と、チタンイオンを含むアパタイトにより形成された光触媒層を持つ水素生成装置に関するものです。この装置は、第1の槽と第2の槽を含み、各槽内にそれぞれ電極が配置されています。イオン結合性導電体は、フッ素添加酸化スズ、スズ添加酸化インジウム、酸化和亜鉛、または4族、5族、6族遷移金属の炭化物または窒化物を含みます。また、光触媒層の厚さは50nmから227mの範囲にあります。水素生成における効率性を向上させるための技術は、エネルギー産業にとって非常に重要であり、この発明はその一環と言えます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 エネルギー環境工業

次世代のエネルギー生産システム

この水素生成装置は、効率的な水素生成のための新たな技術として、エネルギー産業における次世代のエネルギー生産システムの開発に活用できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-022644
発明の名称: 電極、水素生成装置及び水素を生成する方法
出願人／権利者: 富士通株式会社
住所: 神奈川県川崎市中原区上小田中４－１－１
公開番号: 特開2015-147712
登録番号: 特許第6331439号

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