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高品質シリコン窒化膜の鍵、トリイソシアナトシランの精製法

大陽日酸株式会社

東京都品川区小山1-3-26

この技術でできること

トリイソシアナトシランの精製方法とその供給方法についての特許

技術の特徴

本特許は、トリイソシアナトシランの精製法とその供給方法について詳述しています。特許の内容は、粗トリイソシアナトシラン化合物を精製し、それを高純度のトリイソシアナトシランとして供給する方法に関するものです。この方法は、液体状態の粗トリイソシアナトシラン化合物を精製容器内に充填し、高蒸気圧不純物を排出した後、精製したトリイソシアナトシラン化合物を捕集容器に移送し液化して単離するという手順を含みます。また、本特許は、精製容器から排出されるガス中の高蒸気圧不純物の濃度を測定し、それがあらかじめ設定した閾値未満となった後に、精製トリイソシアナトシラン化合物の捕集と液化を開始することを特徴としています。

関連キーワード

トリイソシアナトシラン精製法供給方法高純度半導体製造

AIによる特許活用案

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半導体製造プロセスの最適化

本特許の精製法を用いることで、半導体製造プロセスで使用されるトリイソシアナトシランの品質を向上させることが可能です。これにより、製造過程での不良品の削減や生産効率の向上が期待できます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2013-261546
発明の名称
トリイソシアナトシランの精製方法及び供給方法
出願人/権利者
大陽日酸株式会社
住所
東京都品川区小山1-3-26
公開番号
特開2015-117201
登録番号
特許第6243215号
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