高精度なナノインプリント用モールドの製造方法

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

現有技術よりも簡単な工程でナノインプリント用モールドを製造する方法を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、ナノインプリント用モールドの製造方法において、高コントラスト位置合わせマークを備えたモールドの製造を可能にします。具体的には、位置合わせ用の高コントラストが位置合わせマーク倒域の凹部内に存在するナノインプリント用モールドを征来技術よりも簡単な工程で製造する製造方法に関する。この製造方法は、半導体デバイス、マイクロセンサなどのナノ加工品の製造に用いられます。特許内容によれば、この製造方法は、マスクパターン膜の形成、レジスト膜の形成、高コントラスト膜の形成、そしてレジスト膜とその上の高コントラスト膜の除去という工程を含む。これにより、半導体デバイス等のナノ加工品に対する要求が高まる中で、微細化が進むにつれ高価になっているリソグラフィ技術に対する負担を軽減することが期待されます。

AIによる特許活用案

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高精度な半導体デバイスの製造

この製造方法は、半導体デバイスの製造に大いに利用することができます。ナノインプリント用モールドをより簡単かつ効率的に製造できるため、製造コストを削減しながらも高精度な製品を提供することが可能です。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2013-220816
発明の名称: 高コントラスト位置合わせマークを備えたモールドの製造方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2015-082624
登録番号: 特許第6278383号

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