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高品質なニッケルめっき技術の新時代

地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター

東京都江東区青海2-4-10

この技術でできること

新しい電気ニッケルめっき方法の開発により、高品質なニッケル皮膜を効率的に生産可能

技術の特徴

本特許は電気ニッケルめっき液およびその電気ニッケルめっき液を用いた電気めっき方法に関するものである。従来の電子部品用めっきは銅や銅合金素地上に下地としてニッケルめっき皮膜を設け、その表面に金めっきを行う二層めっきが用いられていた。しかし、本発明では被めっき物を特定の電流密度と速度で電気ニッケルめっき液中に移動させることで、高品質なニッケル皮膜を形成する。さらに、このニッケル皮膜の上に金皮膜を形成することも可能である。この新しい方法により、高速で効率的にニッケル皮膜を生成することが可能となり、品質の向上とコストの削減が見込まれる。

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AIによる特許活用案

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高品質な電子部品の生産

この新しい電気めっき方法は、電子部品の品質を向上させ、製造コストを削減する可能性がある。製造プロセスが効率化され、生産性が向上することにより、市場競争力を強化することが可能となる。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2013-129077
発明の名称
電気ニッケルめっき液、めっき液の製造方法および電気めっき方法
出願人/権利者
地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
住所
東京都江東区青海2-4-10
公開番号
特開2015-004094
登録番号
特許第6195745号
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