革新的なグラフェン中空構造体の作成方法

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

高性能なグラフェン中空構造体の作成方法を特許化。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、ポリマー成型体と酸化グラフェン粉末を特定の質量比で混合し、特定の還元剤を添加して酸化グラフェンを還元し、特定の温度範囲で一定時間放置することで生成されるグラフェン中空構造体の作成方法に関するものです。この方法により作成されるグラフェン中空構造体は、シェル(外皮)がグラフェン膜からなり、中空部を内包する球状構造を持っています。さらに、シェルの厚さや中空体の最大径も特定の範囲に制限されています。このグラフェン中空構造体は高い導電性を持ちつつ、物理的・化学的に安定した特性を持つため、電気化学デバイスやキャパシターなどの電極材料として有効活用することができます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業化学工業エネルギー業界

高性能キャパシターの開発

本特許のグラフェン中空構造体は、その高い導電性と物理的・化学的安定性からキャパシターの電極材料として活用可能です。これにより、高性能なキャパシターの開発が期待できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2013-118077
発明の名称: グラフェン球状中空体の作成方法、グラフェン球状中空体、グラフェン球状中空体集積電極及びグラフェン球状中空体集積キャパシター
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2014-240330
登録番号: 特許第6120277号

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