効率的なウェハエッチングへ、革新的なプラズマエッチング装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

電圧を印加し、エッチングガス中にプラズマを発生させるプラズマエッチング装置の特許

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、ウェハへのエッチングを行うためのプラズマエッチング装置に関するもので、特にその構造と機能に焦点を当てています。装置は電圧を印加し、エッチングガス中にプラズマを発生させることでウェハへのエッチングを効率的に行います。また、装置はステージに設置されるウェハを冷却する冷却部を備えており、エッチングガスの吹き付け方向に交差する方向にステージを移動させるスキャン部も具備しています。これにより、エッチングの均一性と品質を向上させます。さらに、エッチングガス供給部内を通過するエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させる機能も備えています。これらの特長により、本装置はウェハのエッチングを高効率かつ均一に行うことが可能となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業電子部品製造業マイクロエレクトロニクス業界

高効率な半導体製造ラインの構築

このプラズマエッチング装置は、半導体製造ラインにおけるウェハのエッチングプロセスを高効率化し、均一なエッチング結果を得ることが可能です。これにより、製品の品質向上と生産性の向上を同時に達成できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2014-035553
発明の名称: ステージ式のプラズマエッチング装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2014-212303
登録番号: 特許第6288702号

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