次世代の導電性パターン形成技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

高精細な導電性パターンを形成するための特許技術

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、高精細な導電性パターンを形成する技術に関するもので、特にカルボン酸金属塩を形成する反応性表面を持つ銀ナノ粒子層を用いています。この技術は、大面積で高精細な導電路パターンを効率的に形成することが可能で、金属ナノ粒子インクの塗布による形成方法を採用しています。また、被覆金属微粒子の製造法についても詳細に説明されており、高温プロセスを必要としないため、プラスチック基板上への形成も可能です。被覆金属微粒子は、アルキルアミンを含む被膜で被覆され、製造を円滑にすると同時に、低温においても焼結が可能となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業ナノテクノロジー業界

高精度な電子機器の製造

高い精度で導電性パターンを形成することが可能なこの特許技術は、半導体や電子機器の製造において非常に有用です。特に微細なパターンを必要とする半導体製造においては、製造精度の向上に貢献可能です。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2013-186922
発明の名称: 導電性パターンの形成方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2014-195794
登録番号: 特許第6229216号

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