ナノテクノロジーが開く新時代、シリコンナノ粒子の効率的製造方法

学校法人東京電機大学

この技術でできること

本発明は、大量合成可能なウェットプロセスを用い、化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造する新たな方法を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、シリコン粉末を水と有機溶媒とを混合させた混合溶液に投入し、その後エッチング液を投入してシリコンナノ粒子を製造するという、新たな製造プロセスを提案します。この製造法は、従来のPVDやCVDなどのドライプロセスと異なり、ウェットプロセスを用いることで大量合成が可能になります。また、エッチング工程で粒径を制御することで、バンドギャップエネルギーを調整し、光学的特性、電気的特性、磁気的特性、化学的特性を変化させることが可能です。これにより、シリコンナノ粒子はディスプレイ、照明器具、太陽電池などの多様な分野での応用が期待されます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業化学業エネルギー業

高性能ディスプレイの製造

本製造法を用いて作られたシリコンナノ粒子は、その特性を活かして高性能なディスプレイの製造に利用できます。量子ドットの特性を利用して、色の再現性や解像度を向上させることが可能です。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2013-044180
発明の名称: シリコンナノ粒子の製造方法
出願人／権利者: 学校法人東京電機大学
公開番号: 特開2014-172766
登録番号: 特許第6057424号

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