ハイパフォーマンス酸化物ドットパターンの新時代

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

高効率、精密な酸化物ドットパターンの作製方法

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、高効率かつ精密な酸化物ドットパターンの作製方法に関するものであり、半導体装置などでの使用が見込まれます。特に、遅延時間が10s以下であること、第一及び第二のパルスレーザー光が酸化物膜が光吸収を有する波長であること、第二のパルスレーザー光の一照射区画の面積が100X100m以下であることといった特徴を持つ。この方法は、転写用基板が酸化物膜に対して対向配置され、特定のパルスレーザー光を透過させて酸化物膜が表面に形成された透明板に照射することで、酸化物からなるドットを転写するというもので、その結果、面内平均直径が0.5一107mの酸化物ドットパターンの作製が可能となる。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業電子部品製造光学産業

パーツ精密加工の改良

酸化物ドットパターンの精密な作製方法として活用することで、電子デバイスや半導体のパーツ製造過程を改良し、製品の品質と生産効率を向上させることが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2013-049567
発明の名称: 酸化物ドットパターンの作製方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: 特開2014-172087
登録番号: 特許第6041145号

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