高密度記録のための革新的スパッタリングターゲット

三菱マテリアル株式会社

東京都千代田区丸の内三丁目２番３号

この技術でできること

ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット及びその製造方法についての特許技術。

相談したいこと

技術の特徴

この特許では、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット及びその製造方法について述べられています。特に、垂直磁気記録または熱アシスト磁気記録の媒体に適用される磁気記録膜の形成に焦点を当てています。この特許では、従来の技術に残されていた課題を解決しようとしています。具体的には、FePt-C膜を得るために必要だった二種類のスパッタリングターゲットの必要性を排除し、Cのスパッタリングターゲットから発生するC粉のパーティクルによる異常放電の問題を解決しています。さらに、Bを添加したCoPt膜の問題も解決しています。

AIによる特許活用案

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高密度記録メディアの開発

この特許は、高密度データ記録が必要なメディアの開発に役立つ可能性がある。特に、大容量のデータを保存する必要がある場合、この磁気記録膜の形成技術を活用することで、データ記録密度を大幅に向上させることが可能となる。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2012-184728
発明の名称: 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
出願人／権利者: 三菱マテリアル株式会社
住所: 東京都千代田区丸の内三丁目２番３号
公開番号: 特開2014-041682
登録番号: 特許第6108064号

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