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高解像度で微細部位を映し出すイメージング装置

学校法人 工学院大学

東京都新宿区西新宿1丁目24番2号

この技術でできること

電子ビームをパルス状に照射し、2次電子像を生成・比較解析して微細部位を画像化する装置。

技術の特徴

本発明は微細部位イメージング装置に関し、特に、試料を画像化する微細部位イメージング装置に関する。本イメージング装置は、ターゲットとなる試料に電子ビームをパルス状に照射する電子ビーム照射部と、電子ビームのパルスタイミングを制御可能な電子ビームパルス制御部を具備し、電子ビーム照射部から照射される電子ビームにより励起される2次電子から2次電子像を生成する。また、2次イオン像比較部は、電子ビームパルス制御部によるパルスタイミングに対する引出電界パルス制御部によるパルスタイミングの遅延時間を異ならせたときに、イメージング部により生成される2次電子像を画像認識により比較解析する。

関連キーワード

微細部位イメージング装置電子ビーム照射パルスタイミング制御2次電子像生成画像認識

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細胞レベルの研究への応用

この技術は、細胞レベルでの生物学的な研究に活用することができます。細胞の微細部位を高解像度で画像化することで、より詳細な観察や解析が可能になります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2012-163242
発明の名称
微細部位イメージング装置
出願人/権利者
学校法人 工学院大学
住所
東京都新宿区西新宿1丁目24番2号
公開番号
特開2014-022344
登録番号
特許第6014801号
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